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PS中运用蒙版制作双重曝光效果

2019-08-26

       在选择画面的主题形象时,总会遇到需要同时强调多种信息的情况,这是就要考虑元素的组合形式。而对于偏重于表现概念气质的画面来说,双重曝光处理形式是比较适合的方法之一。可以通过蒙版的概念,使用后期处理软件简单实现双重曝光的效果。
       风格特点:
      创意艺术性强
      两种元素相互结合产生故事情节
      同时传递出具象信息与画面的概念气质
      实现原理:
      将图像或文字处理成镂空剪影并放置在画面顶层,使底层图像在剪影轮廓中出现,达到同时叙述两种信息的目的。
     适用范围:
     电影、展览、网页、广告、艺术、杂志、体育、地产等
   (适合表现项目的概念气质,展现性格与情怀领域)
    注意事项:
    1、标志被遮挡  产品细节被裁切
    2、蒙版与图像的选择需要与内容具有联系,不能随意添加
    3、尽量选择宏观照片作为底层图像,同时保证图片的辨识度
    4、出现人物时,需要避免人物的眼睛部分被遮挡

    5、与文字结合的版面,字体的粗细不易过细

    东八区品牌创意(青岛)有限公司品牌设计部成立于二十一世纪初,一个品牌设计刚刚起步的年代,公司拥有专业院校毕业的设计团队及程序团队。起立之初就本着技术一流,服务一流的经营理念为广大客户提供专业、全面、优质的品牌设计服务。品牌设计部短短几年,迅速成长并建立了稳定的客户群体后,公司又顺应时代要求发展成立了影视部及活动策划团队。